鋁合金靶材廠家直銷(xiāo)
概述:適用于直流二極濺射、三極濺射、四級(jí)濺射、射頻濺射、對(duì)向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護(hù)膜、集成電路、顯示器等,相對(duì)其它靶材,鋁靶材的
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鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種,是高純鋁經(jīng)過(guò)系列加工后的產(chǎn)品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機(jī)上,濺射成膜。
鋁靶材物理性質(zhì):
元素符號(hào) |
Al靶材 |
元素符號(hào) |
Al靶材 |
相對(duì)分子質(zhì)量 |
26.98 |
蒸發(fā)潛熱 |
11.4 |
原子體積 |
9.996*10-6 |
蒸汽壓 |
660/10-8-10-9 |
晶型 |
Fcc面心立方 |
電導(dǎo)率 |
37.67 |
堆積密度 |
74% |
電阻系數(shù) |
+0.115 |
配位數(shù) |
12 |
吸收光譜 |
0.20*10-24 |
晶格能 |
200*10-7 |
泊松比 |
0.35 |
密度 |
2.7 |
可壓縮性 |
13.3mm2/MN |
彈性模量 |
66.6Gpa |
熔點(diǎn) |
660.2 |
剪切模量 |
25.5Gpa |
沸點(diǎn) |
約2500 |
常用純度 |
99.9%3N,99.99%4N,99.999%5N,99.9999%6N |
鋁靶用途:適用于直流二極濺射、三極濺射、四級(jí)濺射、射頻濺射、對(duì)向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護(hù)膜、集成電路、顯示器等,相對(duì)其它靶材,鋁靶材的價(jià)格較低,所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。

- rich0101發(fā)布的信息
- 銅合金靶材生產(chǎn)廠家
- 銅靶材用途:適用于直流二極濺射、三極濺射、四級(jí)濺射、射頻濺射、對(duì)向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護(hù)膜、集成電路、顯示器等,相對(duì)其它靶...
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